母版与模具
微结构母版由高精度加工与计量共同定义,是整条链的精度源头。母版精度决定了器件的物理上限。
- EUV / 光刻级母版设计
- 金刚石刀具超精密加工
- 母版复制与寿命管理
微结构母版由高精度加工与计量共同定义,是整条链的精度源头。母版精度决定了器件的物理上限。
压印是把单点精度复制到整片晶圆的关键工序。压印压力、间隙与曝光能量的窗口控制,决定了批量一致性。
镀层决定器件的透过率、反射率与耐候性。不同的耐候等级,从光模块的长期可靠性到汽车前装的严苛工况,对应完全不同的镀膜方案。
从半导体计量体系转过来的检测能力,覆盖尺寸、形貌、光学性能三类指标,每片全检、数据留档可追溯。
自有研发与生产车间,避免依赖外部代工,排产与迭代节奏由我们自己掌握。
同样的母版、同样的压印深度,转印出的结构是一样的——真正不同的是溢胶层。胶层压得越薄,溢胶层被压得越平,对准能力就一起丢失;厚胶压印把溢胶层完整保留下来,母版的结构一次成型,是微透镜阵列、棱镜与多层堆叠器件的成形手段。
真空和大气下,上下两片晶圆之间都有间距,间距由中间的 spacer 决定,W1 都与 spacer 接触。差别有两处:谁给晶圆施力,以及 spacer 是固体还是胶体。真空中 spacer 是固体,压头给 W1 向下的力、吸盘给 W2 向上的力,两片被设备给的挤压力压在 spacer 上,间距取决于设备刚度与力控;而且受压状态下 W1 和 W2 会发生横向偏移,对准精度既无法保持也无法调整。常压下 spacer 是键合胶、呈胶体状态,W1 和 W2 各自被大气压压在自己的真空吸盘上,两片之间不存在挤压力,也就没有摩擦力,晶圆可以横向滑动,间距完全由设备设定的上下位置决定,AA 对准得以实现。
器件能不能做出来,设计阶段就要判断。我们不接受工艺上做不出来的设计。
微透镜焦距、口径、阵列排布与占空比的联合优化。
成像质量、杂散光与效率的建模评估,出图即接近实测。
把制造公差前置到设计阶段,评估良率敏感性。
围绕微透镜阵列结构、投影模组工艺与复眼照明结构形成了专利组合。
| 类型 | 技术主题 | 状态 |
|---|---|---|
| 发明专利 | 基于微透镜阵列的投影模块、制备工艺及投影系统 | 已授权 |
| 发明专利 | 显示装置以及显示方法 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种可变焦微透镜阵列投影装置 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种带定位结构的微透镜阵列、镜头模组和车灯装置 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种复眼透镜结构和含有该复眼透镜结构的照明灯 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种微透镜阵列结构及含有其的投影装置 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种新型车门投影灯 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种光学投影装置 | 已授权 |
| 实用新型 | 一种用于微透镜阵列的吸塑盘包装结构 | 已授权 |
注:以上为部分代表性专利,完整清单可通过商务咨询索取。